因EUV光刻胶专利争议,泛林遭日企Inpria起诉[CSIA]
 
 
因EUV光刻胶专利争议,泛林遭日企Inpria起诉
更新时间:2022/10/19 12:52:55  
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据外媒报道,日本极紫外光刻胶开发商InpriaCorp.日前对泛林(LamResearch)提起专利侵权诉讼。
  
  Inpria方面在向特拉华州地方法院提起的诉状中,指控泛林侵犯了其EUV光刻胶技术专利,要求法院对泛林下达某类干式光刻胶的禁售令,并寻求损害赔偿。
  
  Inpria首席执行官AndrewGrenville在一份声明中表示:“Inpria在新材料和技术的开发方面进行了大量投资,我们相信我们的专利权将在这种情况下得到维护。”
  
  Inpria方面没有透露所寻求的损害赔偿金额,该公司成立于2007年,多年来得到来自芯片行业的多家战略投资者支持,目前是日本半导体材料企业JSRCorp的全资子公司。
 
来源:日经        
 
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