据韩国媒体报道，首尔中央地方检察厅日前对泄露国家核心技术的研究员等7人进行了拘留和起诉，并对3人无拘留起诉。其中，三星4名员工被以“反不正当竞争与保护商业秘密法”起诉，因4人窃取三星半导体机密技术，并将资料外流，其中包括2位在职研发工程师及2位已离职工程师。
据悉，其中一位已离职员工曾在三星半导体部门任职，他被指控从2位在职人员手中获取三星作业手册、超纯水制造系统设计图与其他机密技术资料，并于2018年8月转职期间将资料外泄给一家中国公司，并在获得该公司职位后利用窃取资料协助新公司制造超纯水系统，疑将机密资料当做进入此公司的投名状。
另一位已离职员工则在转职至英特尔期间，利用远程办公职务之便，将关键技术资料传输至家中设备并拍照，将三星超纯水关键技术的资料外流给英特尔。
据了解，超纯水是半导体生产过程中最重要的元素之一，主要用于制备工艺化学溶液、晶圆清洗和浸没式光刻。半导体晶圆在加工过程中暴露于超纯水中，因此，超纯水质量对晶圆生产工艺和产品良率有重要影响。三星自2006年以来，每年花费超过2000万美金于超纯水系统的研发。
对此，韩国最高检察院相关负责人表示：“在技术泄密案件中，由于泄密方式的隐蔽性，一旦犯罪嫌疑人离开或者逃到国外，就很难获得证人和证据。”
在过去的五年中，韩国发生了大约400起技术泄露事件。而这也不是三星第一次遭到员工泄密。今年3月份，三星曾对1名试图将晶圆代工部门业务机密数据外流的可疑员工。经调查，该员工承认其通过手机拍下了相关敏感信息的行为。三星在发现该职员存取机密资料后，对他展开盘问，但不清楚这名员工是否成功将资料外流。 |
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