近日,有消息称,韩国半导体制造商三星和SK海力士正在准备下单ASML的全新High-NAEUV光刻机。ASML表示,新的High-NAEUV光刻机将成为实现2纳米制程工艺的关键设备。预示着2纳米制程工艺的竞争将更加激烈。 EUV光刻机是先进制程得以延续的必备设备,ASML是全球第一大光刻机设备商,同时也是全球唯一可提供EUV光刻机的设备商,来自各大半导体厂商的订单早已堆积成山。因此,去年ASML就已经提高了两次生产目标,希望到2025年,其年出货量能达到约600台DUV(深紫外光)光刻机以及90台EUV(极紫外光)光刻机。 而此次升级后的High-NAEUV光刻系统将提供0.55数值孔径,相较于配备了0.33数值孔径透镜的EUV系统,精度将更高,可以实现更高分辨率的图案化,以及更小的晶体管特征,成为实现2纳米制程工艺的关键设备。 ASML预计明年将向客户交付首台High-NAEUV光刻机,交付后,EUV光刻机将不再是最先进的设备,理论上就能够实现自由出货。 所有想要竞争2纳米市场的玩家都对这台全新的光刻机势在必得。英特尔率先宣布订购High-NAEUV光刻机,还宣布了一个集成半导体公司(IDM2.0)的战略,目标是重回晶圆代工市场。 台积电也表示将在2024年购买ASML的High-NAEUV光刻机,目标是在2025年量产2纳米制程工艺。 而韩国双雄三星和SK海力士也表示将加入订单大战。以三星电子为例,其现有的EUV光刻机估计花费了10亿到15亿元人民币,而High-NAEUV光刻机则估计将达到25亿元人民币,以争取在2025年的2纳米之战中取得先机。( |
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