继英特尔和台积电之后 三星、SK海力士下单ASML下一代2nm EUV设备[CSIA]
 
 
继英特尔和台积电之后 三星、SK海力士下单ASML下一代2nm EUV设备
更新时间:2022/10/24 13:48:47  
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据韩媒报道,ASML财报称,在EUVHigh-NA业务中,公司收到了TWINSCANEXE:5200的额外订单,所有当前的EUV客户都已经下单了下一代半导体设备“High-NA”,这其中包括三星和SK海力士。
  
  据悉,High-NAEUV设备是表示光的集光能力的镜头开口数(NA)从0.33提高到0.55的设备。与现有EUV设备相比,High-NAEUV设备可以绘制出更细微的半导体电路。因此业内普遍认为,要实现2nm工艺,High-NA设备将起到关键作用,甚至是必要条件。此前英特尔、台积电都已宣布订购“High-NA”EUV设备,随着三星电子和SK海力士的入局,2nm制程技术的争夺将更加激烈。
  
  据韩国设备商透露,现款EUV光刻机的订货价是2000~3000亿韩元(约合10~16亿元人民币),而高NAEUV光刻机的报价翻番到了5000亿韩元(约合26亿元人民币)。
  
  ASML首席执行官兼总裁PeterWennink表示:“由于包括通货膨胀、消费者信心指数下跌、经济衰退风险等多个全球宏观经济的问题,市场存在不确定性,虽然感知到不同市场的不同需求变化,但整体上ASML的系统需求仍然强劲,”并称“在此情况下,第三季度预订销售额约89亿欧元,其中High-NA系统等EUV设备销售额达到38亿欧元。”
  
  但是,根据韩媒报道,三星和SK海力士方面就引进High-NAEUV设备时表示:“这是不能正式公开的事情。”
 
来源:韩国时报        
 
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