韩国拟将半导体专利审查时间缩短至两个半月[CSIA]
韩国拟将半导体专利审查时间缩短至两个半月
更新时间:
2022/7/27 12:47:58
【字体:
】
央视财经消息,据韩国国际广播电台25日报道,韩国专利厅24日表示,为支持国内半导体产业,将对半导体相关专利实施优先审查,为涉及核心专利的申请提供全方位支持。由此,韩国半导体专利的审查时间有望从目前的十二个多月大幅缩减至两个半月。韩国专利厅将于8月进行立法预告,9月提交国务会议,10月公布并施行。
来源:央视财经
上一篇:
ASML预计Q3净销售额约51亿至54亿欧元 研发成本8.1亿欧元
下一篇:
韩国国会议员:韩方高度重视同中方开展半导体等领域合作 希望更紧密交流合作
打印此文
收藏此页
关闭窗口
返回顶部
热点文章>>
关于做好2022年享受税收优惠政策的集成电路企业或项目、软件企业清单制...
国务院关于印发新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展若干政策的...
CSIA关于半导体芯片知识产权的公告
外媒:地缘政治因素或将推动英特尔晶圆代工业务发展
韩国贸易协会敦促韩国加入“Chip 4联盟”
相关文章>>