据韩媒businesskorea报道，三星电子副会长李在镕在6月中旬访问ASML荷兰总部时会见ASML首席执行官（CEO）PeterWennink和首席技术官(CTO)MartinvandenBrink，并就引进今年生产的EUV光刻机和明年推出的High-NAEUV光刻机达成协议。
据推测，High-NAEUV光刻机的单价为5000亿韩元，是现有EUV光刻机的2倍。业内人士指出，如果三星电子购买10台High-NAEUV光刻机，将需要5万亿韩元以上的费用。为了提高韩国的国家产业竞争力，有必要扩大政府的支援。
该报道称，三星电子将High-NAEUV光刻机实际应用于半导体工艺的具体时间还没有确定，但考虑到交货时间，预计三星电子将从2024年开始使用该设备。 |
|
