据外媒报道，管理投资公司TrinityCapital近日宣布，法国3D结构GaNLED技术开发商Aledia完成3000万美元设备融资，资金将用于扩建MicroLED纳米线（nanowire）技术制造工厂，并加速产品平台建设及研发工作。
据LEDinside了解，Aledia是2012年从法国研究机构CEA-Leti实验室分拆出来的MicroLED初创公司，专注于8英寸及以上硅衬底MicroLED技术的研发工作，该公司基于独特的3D结构，使用硅基GaN纳米线开发了一种MicroLED生产工艺，拥有“WireLED”商标。设备方面，Aledia主要采用Veeco的薄膜制程设备。
2020年12月，Aledia联手CEA-Leti实验室成功在12英寸硅衬底上生长出业界首款纳米线MicroLED芯片，打开了其潜在的大规模量产能力。
产能方面，Aledia于2020年宣布计划在法国格勒诺布尔（Grenoble）附近的Champagnier投资1.4亿欧元建设LED工厂，预计今年投产，并开始供应MicroLED微型显示器。
截至2020年底，Aledia已融资8000万欧元，本次融资资金也将继续投向该工厂的建设。鉴于其过去采购Veeco的生产设备，新工厂也很大可能将继续引进Veeco的MicroLED批量生产设备。
另值得一提的是，在上个月举办的TouchTaiwan2022展会期间，Aledia也展示了其最新的MicroLED技术和产品，探索元宇宙等MicroLED显示应用新商机。 |
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